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CMP設(shè)備
CMP是在IC 制造工程中晶圓表面平坦化工藝之一環(huán),使用化學研磨劑、研磨墊等,通過化學和機械的復合作用,對晶圓表面的凹凸不平進行研磨,達到平坦化要求的設(shè)備。
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